Gred Ketulenan Sasaran MH Niobium Tersedia

99.95% (4N) Sasaran Niobium

● Ketulenan ultra-tinggi dengan kekotoran logam dan gas yang sangat rendah

● Plasma stabil, penjanaan zarah rendah

● Sesuai untuk filem elektronik semikonduktor, superkonduktor dan{0}}tinggi

99.9% (3N) Sasaran Niobium

● Ketulenan tinggi dengan nisbah prestasi-kos yang sangat baik

● Kestabilan sputtering yang boleh dipercayai untuk aplikasi salutan industri

● Sesuai untuk salutan elektronik, optik dan berfungsi umum

Borang Sasaran MH Niobium

Kami membekalkan sasaran niobium dalam pelbagai geometri untuk memadankan sistem sputtering yang berbeza:

Sasaran Segiempat / Segi Empat

● Sistem sputtering planar

● Magnetron sputtering katod

● Pemendapan filem seragam kawasan- besar

Sasaran tiub

● Sistem sputtering berputar

● Kadar penggunaan sasaran yang lebih tinggi

● Peningkatan keseragaman salutan dan kecekapan pengeluaran

(Dimensi tersuai dan pilihan ikatan tersedia atas permintaan.)

Julat Spesifikasi Sasaran MH Niobium

Kesucian	99.9%, 99.95%
Ketumpatan	Lebih daripada atau sama dengan 99.9% ketumpatan teori
Struktur Bijirin	Baik dan seragam
Kemasan Permukaan	Ra0.4
Sasaran Segiempat / Segi Empat	Panjang Kurang daripada atau sama dengan 3000mm, Lebar Kurang daripada atau sama dengan 800mm, Ketebalan (mm) 1~20mm
Sasaran tiub	Diameter Luar 10-400mm, Dinding 2-28mm

99.95% vs 99.9% – Panduan Pemilihan

item	99.95% Nb Sasaran	99.9% Nb Sasaran
Tahap Kesucian	Ketulenan ultra-tinggi (4N)	Ketulenan tinggi (3N)
Kandungan Kekotoran	Sangat rendah	rendah
Kualiti Filem	Keseragaman & kestabilan tertinggi	Stabil, industri-gred
Penjanaan Zarah	minima	rendah
Aplikasi Biasa	Semikonduktor, filem superkonduktor, R&D	Salutan optik, filem berfungsi, pengeluaran besar-besaran
Tahap Kos	Lebih tinggi	Lebih jimat

Sasaran Segi Empat vs Tiub – Panduan Pemilihan

Perbandingan	Sasaran Segiempat / Segi Empat	Sasaran tiub
Keserasian Proses	Planar Sputtering, Magnetron Sputtering	Sputtering Silinder
Penggunaan Bahan	20%~30%	70%~85%
Kos Perolehan	Sederhana	Jauh lebih tinggi daripada sasaran plat
Kecekapan Pengeluaran	Kelompok kecil, salutan pelbagai-pelbagai	Kumpulan besar dan salutan berterusan
Rawatan Permukaan	Pengisaran dan Penggilap Halus	Pengisaran halus, lebih sukar
Bahan yang Dicadangkan	Niobium Tulen (99.95%), Nb-1Zr	Niobium Tulen (99.95%), Nb-1Zr (Tujuan Khas Suhu Tinggi)

Aplikasi Biasa Sasaran MH Niobium

Filem nipis semikonduktor

Salutan niobium superkonduktor

Salutan optik dan hiasan

Paparan dan peranti elektronik

Penyelidikan dan filem berfungsi lanjutan

Mengapa Memilih Sasaran MH Niobium

● Ketulenan Tinggi & Prestasi Sputtering Stabil

● Struktur Mikro Seragam dan Ketumpatan Tinggi

● Pelbagai Geometri Tersedia: Segi Empat & Tiub

● Dimensi Tersuai dan Penyelesaian Ikatan

● Penggunaan Terbukti dalam Aplikasi Salutan Lanjutan

Sasaran sputtering niobium kami memberikan ketulenan yang boleh dipercayai, tingkah laku sputtering yang konsisten dan-prestasi filem berkualiti tinggi untuk aplikasi filem nipis yang menuntut.